測試簡介

掠入射小角 X 射線散射 (GISAXS) 應用于含有尺寸范圍為 1 – 100 nm 的納米顆粒、毛孔和其他非均質性的薄表層。 GISAXS 用于獲取有關這些納米級特征的大小、形狀和對齊的信息。 SAXS（小角 X 射線散射）應用于液體或粉末形式的納米材料，而 GISAXS 應用于平基片上的表層。 GISAXS 用于顯示橫向尺寸和排列。

樣品要求

1)    粉末樣品最好提供10mg以上，無明顯顆粒感 2)    液體樣品濃度要求10mg/mL，體積2mL以上，無沉淀，需提供背景樣品 3)    普通saxs膜樣：10*5mm，膜厚越接近1mm越好，纖維樣品梳理整齊，盡量保持伸直狀態 4)    金屬類塊體樣品越薄越好，一般厚度80um以下 5)    水凝膠樣品的要求，如果樣品可成形，尺寸需為1*1cm大小，1mm厚；如果不成形，需2mL 6)    GI-SAXS或GI-WAXS的樣品一般都是做在硅片（比FTO玻璃反射效果好）上，厚度在200nm左右，大于1微米會影響信號。尺寸1x1cm大小（超過的事先說明）

收費標準

1)    二維SAXS(固體樣品)：500元/樣 2)    二維SAXS(溶液樣品)：700元/樣 3)    二維GI-SAXS(固體樣品，5個樣品起測)：600元/樣 4)    二維GI-WAXS(溶液樣品，5個樣品起測)：800元/樣

分析儀器

儀器名稱：小角X射線散射儀SAXS 儀器型號： NanoSTAR 儀器廠家：德國Bruker-AXS公司 NANOSTAR具有無與倫比的模塊化特性，它是通過小角X射線散射（SAXS）、掠入小角X射線散射（GI-SAXS）、廣角X射線散射（WAXS）以及Nanography，對納米結構以及納米結構表面進行表征的理想工具。支持鏡面調節的針孔準直系統提供了一種高強度和具有低寄生散射的平行線束，且保持了理想的圓形光束形狀。超大（XL）樣品室可容納各種專用樣品臺和第三方樣品臺，以便您在任何條件下對多種類型的樣品進行測量。最后，您將能通過大型、低背景、高度靈敏的2D探測器，收集各向同性和各向異性樣品的散射信號。

儀器技術參數

1)    V?NTEC-5002D探測器           活動區域大，背景低，高靈敏度2D探測器           較大的有效區域（直徑14 cm厘米），用于拍攝全視角SAXS / WAXS散射圖像           極低的背景，因此極為靈敏           出色的空間分辨率（68微米像素）           免維護（無需水/空氣，或對強主光束或探測器在偏壓下的移動敏感） 2)    XL 樣品室           內部尺寸：287mm x 501mm x 380mm（寬x高x深）           使用法蘭連接其他電源           X-Y樣品臺，平移80mm x 130mm           電動參考樣品輪           可在真空、空氣或惰性氣體下運作