場(chǎng)發(fā)射電子探針

適用領(lǐng)域

    1) 金屬材料的相分析、成分分析和夾雜物形態(tài)成分鑒定。     2) 金銀飾品、寶石首飾的鑒別，考古和文物鑒定，以及刑偵鑒定等領(lǐng)域。     3) 高分子、陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無機(jī)或有機(jī)固體材料分析。     4) 可對(duì)固體材料的表面涂層、鍍層進(jìn)行分析，如：金屬化膜表面鍍層的檢測(cè)。     5) 進(jìn)行材料表面微區(qū)成分的定性和定量分析，在材料表面做元素的面、線、點(diǎn)分布分析。

面向?qū)W科

    化學(xué)、化工、高分子、材料、金屬、材料、地質(zhì)等

樣品要求

    1) 樣品要求：粉末、薄膜、塊體均可。粉末10mg，塊體樣品高度小于15mm、長(zhǎng)寬小于25mm     2) 特別注意：樣品上下表面平行，測(cè)試面務(wù)必拋光；不導(dǎo)電樣品需要噴金或噴碳；最好標(biāo)記好分析面上的測(cè)試點(diǎn)，未標(biāo)記測(cè)試位置，測(cè)試時(shí)只選有代表性、較平整位置測(cè)試；

收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)

    1) WDS(波譜面分析)：4個(gè)元素以內(nèi)1500/樣，4個(gè)元素以上500元/元素，分辨率512*384；     2) WDS(波譜線分析)：4個(gè)元素以內(nèi)800/樣，4個(gè)元素以上200元/元素；     3) WDS(波譜定量點(diǎn))：4個(gè)元素以內(nèi)，三個(gè)相(最多5點(diǎn)實(shí)驗(yàn)結(jié)果)以內(nèi)每個(gè)樣品1500元，4個(gè)元素以上400元/元素；     4) 微量元素和超輕元素在正常價(jià)格上增加300元/元素     5) 噴金/噴碳制樣：500元/次

測(cè)試儀器

    儀器名稱：場(chǎng)發(fā)射電子探針     儀器型號(hào)：JXA-8530F Plus     儀器廠家：日本電子     關(guān)鍵字：波譜面分析、波譜線分析、波譜定量點(diǎn)、EPMA、場(chǎng)發(fā)射、電子探針          儀器簡(jiǎn)要：日本電子推出了世界首臺(tái)商業(yè)化場(chǎng)發(fā)射電子探針（FE-EPMA），最新研發(fā)的第三代場(chǎng)發(fā)射電子探針JXA-8530F Plus，電子光學(xué)系統(tǒng)有了很大的改進(jìn)，新的軟件能提供更高的通量，并保持著極高的穩(wěn)定性，能實(shí)現(xiàn)更廣泛的EPMA應(yīng)用,JXA-8530F Plus采用浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍,優(yōu)化了角電流密度，能利用2 μA以上的大探針電流進(jìn)行分析，還提高了分析條件下的二次電子像的分辨率。

儀器參數(shù)

    1) 元素分析范圍(WDS)：: Be to U     2) X射線范圍(WDS譜)：0.087-9.3nm     3) X射線光譜儀數(shù)量(WDS)：5     4) 樣品最大尺寸： 100mm*100mm*50mm(H)     5) 加速電壓： 1-30Kv(每次0.1Kv)     6) 探針電流穩(wěn)定性： ±0.3%/h(10kV，50nA)     7) 二次電子圖像分辨率：3 nm at WD 11 mm, 30 kV                                            20 nm at 10 kV, 10 nA, WD 11 mm                                            50 nm at 10 kV, 100 nA, WD 11 mm     8) 放大倍數(shù)： ×40 to ×300,000 (WD 11 mm)     9) 掃描圖像像素分辨率：最高 5,120×3,840